近日，美国ART OF FASHION时装设计大赛初赛结果揭晓，武汉科技学院服装设计05级学生孙艺菲凭借作品《WHY NOT》成功进入决赛，成为中国内地唯一入选选手。今年十月底，她将赴旧金山De Young Museum博物馆参加金奖的角逐。

　　ART OF FASHION设计竞赛分为时装设计竞赛和服饰配件竞赛两部分，由美国时装艺术基金会主办，日本YKK品牌协办，主要面向大专院校的设计专业学生及未公开发表作品的设计师，致力于将艺术与创造力融入时尚设计，促进国际时尚文化艺术交流。优秀的艺术家、青年设计师和学生，将通过此项赛事，得到赴知名时装企业、服装院校实习和深造的机会。

　　此次大赛收到了来自全球23个国家的79所服装院校的设计稿件，评审委员会评选出60份入围作品。从官方网站公布的入围结果看，Academy of Art University / San Francisco,(旧金山艺术大学)、Parsons the New School(纽约帕森艺术设计学院——北美十大设计学院)、Royal Academy of Fine Arts(比利时安特卫普美术学院)、Hong Kong Polytechnic University(香港理工大学)等全球知名设计院校的学生都参加了这项国际赛事。

　　此次进入决赛的孙艺菲曾在2007年真维斯休闲装设计大赛中获得西部赛区金奖。此次创作的三套服装，充分表达出她对服装深刻的理解和一贯追求的美学理念，即自然、和谐、无律，模糊了穿着者的性别，利用二维和三维的穿插结合，展现出轻松、惬意、自由的生活态度。孙艺菲正从形而下地追求服装款式及结构设计慢慢过渡为形而上地用服装来表达思想。